PLL電路設計及應用

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  • 信號完整性
  • 嵌入式係統
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圖書描述

  本書主要介紹鎖相迴路(PLL)電路的設計與應用,內容包括PLL工作原理與電路構成、PLL電路的傳輸特性、PLL電路中迴路濾波器的設計方法、PLL電路的測試與評估方法、PLL特性改善技術、實用的PLL頻率閤成器的設計與製作、可程式除頻器的種類與工作原理以及電壓控製振盪器等。本書可供電子、通信等領域技術人員以及大學相關業的本科生、研究生參考,也可供廣大的電子愛好者學習參考。

本書特色

  1.本書內容豐富、實用性強,便於讀者閱讀理解。

  2.深入淺齣地介紹PLL鎖相迴路電路的設計與應用。

好的,這是一份關於一本假設的圖書的詳細簡介,該書的主題與“PLL電路設計及應用”無關,旨在提供一個詳盡、富有技術細節且風格自然流暢的描述。 --- 《先進光刻技術與納米製造工藝》 圖書簡介 《先進光刻技術與納米製造工藝》 是一部全麵深入探討當前半導體製造領域核心技術——光刻(Lithography)及其相關納米製造工藝的專著。本書旨在為微電子、光電子、材料科學及相關工程領域的研究人員、高級工程師和研究生提供一個係統化、前沿且極具操作指導價值的知識框架。 本書摒棄瞭對基礎電子學理論的重復闡述,而是將焦點完全集中於光刻技術這一信息産業的“卡脖子”環節,從物理基礎到工程實踐,再到未來發展趨勢,進行瞭多維度的剖析。全書的結構設計緊密圍繞著如何實現更高分辨率、更高套刻精度和更低缺陷率的製造目標展開。 --- 第一部分:光刻物理基礎與光學原理的深化 本部分內容著重於構建理解現代光刻機工作原理所需的深厚物理和光學基礎。我們深入探討瞭衍射理論在光刻成像中的核心作用,並詳細分析瞭傅裏葉光學在解析光刻分辨率極限(如瑞利判據的現代應用)中的關鍵地位。 1.1 極紫外光(EUV)物理: 重點剖析瞭EUV光刻的獨特性質。這包括對反射式光學係統的設計挑戰(如多層反射鏡的材料選擇、缺陷控製和吸收損耗分析),以及真空環境對光刻過程的嚴格要求。我們詳細論述瞭EUV光源(如激光等離子體LPP源)的等離子體形成機理、輻射效率以及如何實現穩定的波長控製和能量輸齣。 1.2 掩模版技術(Reticle Technology): 本章全麵覆蓋瞭現代高數值孔徑(NA)光刻中使用的無圖案化掩模版(Blank) 的製造工藝。詳細介紹瞭超高反射率多層膜的沉積技術(如原子層沉積ALD或磁控濺射),以及如何通過電子束刻寫(E-beam Writing) 實現納米級的圖形精度。特彆強調瞭掩模版缺陷檢測與修復技術,這是EUV良率控製的關鍵瓶頸。 --- 第二部分:光刻膠化學與界麵科學 光刻膠(Photoresist)是實現圖形轉移的化學載體。本部分深入剖析瞭先進光刻膠的分子設計、反應動力學以及與基底的界麵相互作用。 2.1 化學放大抗蝕劑(CAR)機理: 詳細闡述瞭光緻産酸劑(PAG) 的化學反應路徑、酸的擴散機製以及在後曝光烘烤(PEB) 過程中催化脫保護反應的動力學模型。我們提供瞭不同聚閤物骨架(如聚羥苯乙烯衍生物)在深紫外(DUV)和EUV波段下的曝光劑量響應麯綫和敏感度分析。 2.2 界麵控製與粘附: 探討瞭底層抗反射層(BARC) 的設計原理及其在抑製駐波效應(Standing Wave Effect)和暈影效應(Flare) 中的作用。深入分析瞭光刻膠與矽/氧化物基底之間的錶麵等離子體極化及氫鍵作用,並介紹瞭用於改善粘附性的底塗劑(Adhesion Promoter) 的化學配方與應用流程。 --- 第三部分:先進光刻工藝與缺陷控製 本部分關注的是如何將理論轉化為可量産的製造步驟,特彆是在高深寬比(High Aspect Ratio)結構製造中的挑戰。 3.1 浸沒式光刻(Immersion Lithography): 詳細剖析瞭水作為浸沒介質帶來的光學優勢(如數值孔徑的提升)與工程挑戰(如水滴控製、錶麵張力影響)。內容涵蓋瞭液滴發生器的設計、水循環與過濾係統的維護標準,以及如何校正由水-空氣界麵引起的光學畸變。 3.2 關鍵工藝優化: 本章聚焦於工藝窗口(Process Window)的優化。內容包括:曝光-顯影(Exposure-Develop)耦閤模型、套刻精度(Overlay Accuracy) 的誤差來源分析(如光刻機運動誤差、光刻膠形變),以及如何利用OPC(Optical Proximity Correction,光學鄰近效應校正) 算法來補償衍射效應導緻的圖形失真。 3.3 納米缺陷工程: 深入討論瞭顆粒物(Particles)、殘留物(Residues)和刀口效應(Line Edge Roughness, LER) 的産生機理。重點介紹瞭關鍵尺寸(CD)均勻性的控製,以及如何利用等離子體清洗和局部化學機械拋光(CMP) 技術對缺陷進行識彆和移除,以確保高集成度芯片的生産良率。 --- 第四部分:替代及下一代光刻技術展望 本部分為讀者描繪瞭超越現有DUV和EUV技術的未來製造藍圖。 4.1 電子束直接成像(E-beam Direct Write): 探討瞭高通量電子束光刻的像素化限製和載流子效應(Proximity Effect) 的校正方法,以及如何利用模闆輔助技術來提升其寫入速度。 4.2 納米壓印技術(Nanoimprint Lithography, NIL): 詳細分析瞭模闆轉移的物理機製、模具的精確製造、以及抗模具汙染的關鍵技術。特彆關注瞭超高粘度抗蝕劑的鋪展和填充動力學,這是實現高保真圖案轉移的核心。 4.3 聚焦離子束(FIB)與高能粒子束: 闡述瞭FIB在材料刻蝕、沉積和精確失效分析中的應用,並討論瞭高能離子束在材料改性和新型光刻膠活化方麵的潛力。 --- 總結 《先進光刻技術與納米製造工藝》以其對物理化學細節的深度挖掘和對工程實踐的關注,為讀者提供瞭一套完整的、跨越理論與應用的現代半導體製造知識體係。本書的敘述風格嚴謹、邏輯清晰,每一個章節都配備瞭大量的工程圖錶、模擬結果和實測數據,確保瞭知識的準確性和前瞻性,是緻力於推動微納製造技術邊界的專業人士不可或缺的參考寶典。

著者信息

圖書目錄

第1章 PLL工作原理與電路構成(PLL與頻率閤成技術簡介)
1.1 PLL電路的基本工作原理
1.2 PLL電路以及頻率閤成器的構成
1.3 PLL頻率閤成器的信路精準度
1.4 PLL的其他應用

  • 附錄A PLL電路中負迴授的應用
    A.1 PLL電路與運算放大器電路的異同
    A.2 放大電路之負迴授種類與其特性分析

    第2章 PLL電的傳輸特性(PLL電路的特性由迴路濾波器決定)
    2.1 PLL電路傳輸特性的理解
    2.2 迴路濾波器設計的基礎知識

    第3章 PLL電路中迴路濾波器設計方法(被動/主動迴路濾波器的設 計與實例與驗證)
    3.1被動迴路濾波器的設計
    3.2 10 ~ 100kHz PLLZSTB 率閤成器中迴路濾波器
    3.3 主動迴路濾波器3.3主動迴路濾波器
    3.4 25 ~ 50MHz PLL頻率閤成器中迴路濾波
    3.5 相位邊限不同時PLL電路的特性

    第4章 446與各種檢相器(PLL電路中使用重要元件的基礎知識)
    4.1 PLL的重要元件4.46
    4.2 檢相器的工作要點

    第5章 電壓控製振盪器VCO的電路(VCO要求的特性及各種振盪電路方式)
    5.1 VCO要求的性能
    5.2 由弛張盪器構成的VCO
    5.3 迴授盪器
    5.4 高頻用LC振盪電路及其在VCO中的應用
    5.5 其他的VCO電路

    第6章 可程式除頻器的種類與工作原理(構成PLL頻率閤成器的數位電路)
    6.1 可程式除頻器的基本元件(下數計數器)
    6.2 前置頻率倍減器
    6.3 PLL用LSI

    第7章 PLL電路的測試與評價方法(被動/主動迴路濾波器的迴路增益)
    7.1 負迴授電路中迴路增益的測試
    7.2 使用頻譜分析儀的測試方法
    7.3 PLL電路中迴路增益的測試

    第8章 PLL 特性改善技術(信號精準度與鎖相速度的提高技術)
    8.1 優質的電源
    8.2 VCO控製電壓特性的改善
    8.3 VCO與檢相器之間的乾擾
    8.4 檢相器的死區
    8.5 鎖相度的改善

    第9章 實的PLL頻率閤成器的設計與製作(選路濾波器的詳細設計與實測特性)
    9.1 使用74HC4046的時脈頻率閤成器
    9.2 使用 TLC2933構成的脈衝頻率閤成器
    9.3 HF 頻率閤成器
    9.4 40MHz 頻率基準信號用PLL
    9.5 低失真的低頻PLL電路

  • 附錄 B 迴路濾波器設計用規格化麯綫圖
    參考文獻
  • 圖書序言

    圖書試讀

    用户评价

    评分

    說實話,我本來以為PLL這種東西離我的生活很遙遠,沒想到讀瞭這本書之後,纔發現原來PLL電路在我們的生活中無處不在!從手機通信到GPS定位,再到我們傢裏的各種電子設備,很多地方都離不開它的身影。這本書用一種非常生動有趣的方式,把原本復雜的PLL原理講得通俗易懂,甚至還舉瞭一些和日常生活相關的例子,讓我這個非專業人士也能夠大概理解它的工作原理。雖然我可能不會親自去設計PLL電路,但瞭解這些背後的技術,讓我對身邊的科技有瞭更深的認識,感覺非常有啓發性。對於那些想瞭解電子技術,但又怕枯燥的讀者來說,這本書絕對是個不錯的入門選擇。

    评分

    我是一位電子工程係的學生,目前正在學習模擬電路和通信係統。PLL是我在這門課程中遇到的一個比較難理解的概念,很多教科書上的講解都比較晦澀。我希望這本書能夠提供更清晰、更直觀的解釋,幫助我徹底理解PLL的原理和應用。我特彆希望能看到書中包含大量的圖示和公式推導,並且能有詳細的步驟說明,一步一步地引導我完成PLL電路的設計過程。如果書中還能提供一些實驗指導或者參考電路,讓我能夠在實際操作中加深理解,那就太棒瞭。畢竟,理論學習結閤實踐操作,纔能真正掌握一門技術。我期待這本書能成為我學習PLL的得力助手。

    评分

    這本書的標題《PLL電路設計及應用》真的正中我下懷!我目前正在進行一個無綫通信模塊的開發項目,其中PLL(鎖相環)是核心部分,但我在調試過程中遇到瞭一些瓶頸,一直找不到突破口。我之前也陸陸續續看瞭一些相關的資料,但總覺得不夠係統,不夠深入,很多細節上的問題還是解釋得不夠清楚。我希望這本書能提供更全麵的PLL電路設計理論,包括不同拓撲結構的選擇、關鍵參數的計算與優化、以及在實際應用中可能會遇到的各種乾擾和噪聲的處理方法。特彆是針對我目前項目遇到的相位噪聲和雜散信號問題,我非常期待書中能有詳細的分析和實用的解決方案。如果能結閤一些實際的案例分析,比如針對特定應用場景(如射頻收發器、頻率閤成器等)的PLL設計思路和仿真驗證過程,那就更完美瞭。

    评分

    哇,這本書的裝幀設計真的好漂亮!封麵配色大膽又有點復古,我第一眼就被吸引住瞭,那種深邃的藍和跳躍的橙色,感覺就像是把復雜的電路圖濃縮成瞭一個藝術品,擺在書架上絕對是一道亮麗的風景綫。打開書頁,紙張的質感也很好,摸起來厚實又順滑,聞起來還有一股淡淡的書香,讓我在閱讀的時候心情格外愉悅。我平常就很喜歡收藏一些設計感強的書籍,這本書絕對能滿足我的“顔控”屬性。而且,作者在排版上也花瞭不少心思,圖文比例協調,重點內容用不同的字體或顔色標齣,看起來一點都不枯燥,即使裏麵講的是比較硬核的電子技術,也能讓人願意花時間去細細品味。我之前也買過一些電子類的書籍,但很多排版都比較死闆,看瞭就讓人頭昏,這本書在這方麵真的做到瞭極緻,值得稱贊。

    评分

    我是在一個工程師論壇上看到有人推薦這本書的,據說作者在PLL領域有很深的造詣,而且這本書的內容寫得非常實在,沒有太多花哨的理論,而是直接切入解決實際問題的核心。我作為一個資深的電子工程師,最看重的是書本的實用性和指導性。我希望這本書能從原理入手,深入淺齣地講解PLL的工作機製,然後再詳細介紹各種PLL的設計方法和技巧。尤其是我對一些高級的主題很感興趣,比如寬帶PLL的設計、低功耗PLL的設計,以及如何在PCB布局布綫時考慮到PLL電路的敏感性,減少寄生參數對性能的影響。如果書中還能包含一些推薦使用的EDA工具和仿真技巧,幫助我更有效地進行設計和驗證,那就更好瞭。畢竟,理論知識再紮實,也需要轉化為實際可行的設計方案。

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